توسعه CPUهای جدید اینتل با لیتوگرافی 7 و 10 نانومتری

می دانیم که اینتل در پی مشکلات مهاجرت از لیتوگرافی 14 نانومتری به سمت 10 و 7 نانومتری، با تاخیر در ارائه این محصولات دست و پنجه نرم می کند. این شرکت به تازگی در نشستی اعلام کرده است که برای افزایش سرعت در حل مشکلات خود، توسعه لیتوگرافی 7 نانومتری را به یک تیم مجزا سپرده است. به عبارت ساده تر، یک تیم مهندسی دیگر به طور خاص بر روی لیتوگرافی 7 نانومتری متمرکز شده است. این احتمال وجود دارد که برخی از پردازنده های 10 نانومتری در سال 2019 راهی بازار شوند.

توسعه لیتوگرافی 7 نانومتری این شرکت، بر اساس Extreme Ultraviolet، به اختصار EUV بوده و سازوکار آن از پردازش های 10 نانومتری مبتنی بر Deep Ultraviolet، به اختصار DUV، جدا شده است. این احتمال وجود دارد که پردازنده های 10 نانومتری Intel با کد رمز Cannon Lake عرضه شده و البته مدل های دندان گیر و مشهوری در بین آنها وجود نداشته باشد؛ چرا که تا کنون یک مدل Core i3-8121U بر اساس این لیتوگرافی خودنمایی کرده است که یک CPU مناسب لپ تاپ است.

Intel با تکیه بر امکانات تولید جدید خود، دستورالعمل AVX-512 را در این محصولات اجرایی کرده و به گفته این کمپانی، پرش از لیتوگرافی 10 نانومتری به 7 نانومتری EUV، امکان افزایش 2 برابری تعداد ترانزیستورها را به این شرکت خواهد داد. 10 نانومتر DUV ترکیبی از لیزرهای اشعه ماوراء بنفش با طول موج 193 نانومتر و چند الگوریتم را برای رسیدن به تراکم ترانزیستور، تا 2 برابر و بسیار بیش از لیتوگرافی 14++ نانومتری است.

گره های 7 نانومتری از یک لیزر غیر مستقیم 135 نانومتری استفاده می کند که می تواند در آینده سبب تولید CPUهای 5 نانومتری شود. اینتل برای مدت های طولانی بر روی لیتوگرافی 10 نانومتری متمرکز بوده و حالا با مشکلات فنی روبرو است؛ در نتیجه تصمیم گرفته است تا موقتا از این لیتوگرافی عبور کرده و به سراغ مدل های 7 نانومتری برود تا از هدر رفتن وقت خود جلوگیری نمایید. در نتیجه در خلال سالهای 2019 تا 2021، شاهد تغییرات بزرگی در ابعاد لیتوگرافی های Intel خواهیم بود.